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氫氣分析儀預處理系統(tǒng)和校準
氫氣分析儀預處理系統(tǒng)和校準
在涉及氣體的工業(yè)過程中,例如在能源工業(yè)、過程工程、生產(chǎn)或化學工業(yè)中,其目標是優(yōu)化、提供質量保證或避免危險,將設備集成到測量系統(tǒng)、采樣和處理中使用在線氫氣分析儀可實現(xiàn)很優(yōu)的過程控制。在此上下文中的術語“在線”是指工藝管線中的氫氣濃度變化與測量信號變化之間的延遲非常短,以致測量信號始終表示瞬時濃度,以便其仍然可以被適當?shù)窒?。這也意味著分析是連續(xù)的,因為氫氣濃度的相關變化不會被掩蓋,甚至不會被發(fā)現(xiàn)。此類氫氣分析儀裝置可通過直接暴露于工藝氣體(通常通過使用過濾或玻璃料)或通過直接通過工藝氣體發(fā)送光束(例如用于現(xiàn)場光度計)在現(xiàn)場操作。二種可能性是移除氣體,運輸氣體,必要時對其進行調(diào)節(jié),然后進行分析。之后,它可以被反饋或丟棄。這種方法稱為抽取式氫氣氣體分析。兩種方法都有其合理性和具體的優(yōu)缺點。現(xiàn)場氫氣分析通常是快速的,不會被處理破壞,并且通常需要較少的附加成分。另一方面,對選擇性、對工藝條件的耐受性和現(xiàn)場調(diào)整的要求往往難以管理。氫氣抽取分析的優(yōu)點是能夠調(diào)節(jié)樣品進行分析,例如去除干擾成分,如灰塵和水蒸氣。壓力和溫度可以達到更容易分析的水平。當然,如果被測氫氣樣品調(diào)節(jié)過程中的程序偽造了測量值,例如,測量組件在用于干燥氣體的冷卻器中被部分清洗,則此優(yōu)勢也可能有害。我們將在下面的段落中重點介紹抽取氫氣濃度分析。
2、抽取式氫氣濃度分析2.1、采樣位置:規(guī)劃可以從定義采樣點開始,這當然會受到測量任務本身的影響。首先,必須澄清相關氫氣氣體樣品是否實際存在于提取地點。在那里,應完成所有混合過程和化學反應。冷卻器或分離器后面的取樣點特別適用于分析測量,其中物料平衡中的平均值比確定瞬時波動更重要。在大多數(shù)情況下,被測介質處于易于處理的狀態(tài),以便在這些位置移除。
在較大的氫氣氣體通道中,層內(nèi)的濃度分布也可能發(fā)生在流動的橫向。外圍電流或例如平靜區(qū)中的氣體可能不具有代表性,并可能導致錯誤分析。此時,可能需要在初步試驗期間通過掃描線橫截面來確定代表性樣品的合適位置。
2.2、移除裝置:常用的是氣體取樣探頭。它們提供了預分離的選項:例如,由于其慣性,可通過逆流萃取將顆粒、液滴和氣溶膠排除在分析系統(tǒng)之外。另一方面,如果你想在樣品中含有這樣的物質,你必須用流動的方法等抽取。過濾器通常安裝在探頭內(nèi)部,可與探頭一起加熱,以避免出現(xiàn)煙灰。在許多簡單的應用中,使用T形件,T形件與主流成直角或銳角,以收集無問題的樣氣。
2.3、促進和傳輸氫氣:在旁路布置中向氫氣分析儀供應氣體特別容易,旁路布置通過主流中的扼流圈產(chǎn)生旁路氣流。如圖1所示。安裝有三通閥,用于供給和排出標定氣體。溢流配有過濾器。如有必要,也可在氫氣分析儀進氣口前集成柱冷卻器。
圖1
如果氣體輸送沒有超壓,則使用樣氣泵。如果使用脈沖泵,由于湍流引起的信號噪聲,甚至由于壓力和流量相關性引起的信號偏移,存在過度脈動將使測量值失真的風險。因此,通常有必要通過在泵和分析儀之間集成限流元件將氫氣分析儀與泵浪涌分離。如果泵在壓力側通過針閥節(jié)流,如圖2所示,則不應使用會產(chǎn)生高壓的泵,因為這可能導致不必要的反應,如冷凝。簡單的磁性活塞泵特別適用于從大氣壓力下的系統(tǒng)中移除。當然,變量泵也可以用來調(diào)整沒有壓力峰值的適當流量。通過確定層流限制器上的壓降,測量并(如有必要)監(jiān)測流量并正確調(diào)整針閥(見圖2)。
如果工藝氣體相對于氫氣分析儀出口處于足夠的超壓下,則應控制流量。如果壓力過高或波動,則需要使用壓力調(diào)節(jié)器或閉環(huán)流量控制來降低和穩(wěn)定壓力。使用FTC320EX氫氣分析儀帶流量裝置,這種閉環(huán)控制特別簡單,該氫氣分析儀測量當前氣體流量并為保持流量恒定的比例閥生成輸出信號。該設置如圖3所示。如果需要在相同但較高的壓力下進行 氣體去除和重新進料,則可使用所謂的氣體循環(huán)器。在這些裝置中,氣路完全封裝,因此具有耐壓性。它們的進料旋轉閥由磁耦合驅動。測量FTC320EX氫氣分析儀和FTC150氫氣傳感器的可承受高達20巴的壓力。
2.4、被測氫氣樣品預處理:為了使樣品能夠進行連續(xù)和永 久的分析,通常需要對樣品進行處理;這稱為樣品預處理,通常包括去除干擾成分。必須進行所有形式的分離和制備,以便樣品仍能代表工藝管線中的氣體成分。如果由于樣品制備程序導致氣體成分發(fā)生變化,則必須進行必要的再現(xiàn),以獲得代表工藝線中氫氣濃度的正確校正值。例如,必須考慮使用氣體冷卻器減少的總氣體體積,以校正測量值。被測氫氣樣品制備采用物理和化學方法。
物理過程包括:
- 冷卻或加熱
- 減壓或增壓
- 具有規(guī)定孔徑的機械過濾
- 具有活性表面的過濾,如疏水層和疏油層
- 凝固
- 慣性或重力分離,如旋風分離器
- 滲透,例如干燥
- 擋板沉積
化學過程可以通過催化、化學鍵合或吸附將有問題的物質完全從樣氣中去除。這包括例如:
- 不同氣體用不同尺寸的分子篩
- 油蒸氣、重烴和氯化烴用活性炭
- 用于二氧化碳的鈉石灰(鈉、氫氧化鈣)
- 一氧化碳氧化鈣
- 硅膠保濕劑
- SOx用碳酸鈉
- 用于H2S的Bog鐵礦石
應注意的是,這些化合物是消耗品,必須在其容量能力結束前進行交換或再處理。
2.5、氫氣分析儀的校準:為確保分析質量,必須使用校準氣體檢查氫氣分析儀,必要時重新調(diào)整氫氣分析儀。進料標定氣體時,請記住冷卻器、過濾器、吸收和釋放可能會改變氣體成分,因為它們可能會解吸水分。在樣品制備過程中,應采用與樣品氣相同的處理方調(diào)節(jié)氣體。這種情況如圖2所示,其中校準氣體在樣氣冷卻器之前輸入。如果預計在調(diào)整過程期間,氣路將變干,則應以濕潤狀態(tài)供應標定氫氣氣體。如果導致污染,則在調(diào)整過程中暫停將氣體再循環(huán)到工藝中。補償壓力影響對于許多在恒定壓力條件下不進行的測量和調(diào)整是必要的。為了評估這一點,應注意光度計的讀數(shù)與壓力大致成比例變化。在大氣條件下,50 hPa的壓力變化也會導致讀數(shù)變化約5%。對于基于熱導率原理的測量氫氣分析儀儀器,通常不需要在800 hPa(絕 對壓力)以上的范圍內(nèi)進行壓力補償。因此,具有集成IR測量的FTC 400(如圖4所示)配備有壓力補償裝置。它在測量和調(diào)整過程中也處于激活狀態(tài),以便根據(jù)標準壓力校正顯示的測量值。
2.7、管路材質:不銹鋼部件,如LF316Ti,適用于防滲透、耐壓和相對耐腐蝕的布置。HASTELLOY®等其他更耐腐蝕的合金可用于高侵蝕性氣體。PTFE或PFA特別惰性,但滲透性很強,因此不適用于氧氣的微量氣體分析。這或多或少適用于所有聚合物。
氫氣分析儀防冷凝和灰塵處理選項
當干燥劑或其他干燥設備和顆粒過濾失效或效率低時,被測氣體可能冷凝或大的顆粒物進入分析儀,造成分析儀損壞。FTC320氧中氫分析儀內(nèi)部傳感器采用一層PTFE涂層保護熱導傳感器。防止冷凝和灰塵的保護措施:樣品氣體中的冷凝物通常會立即導致傳感器元件的故障,從而導致裝置的故障。灰塵、污垢、顆?;蛩樾家矔p壞傳感器元件。疏水過濾器將熱導氣體傳感器元件與樣品流分離。過濾器的孔徑在μm范圍內(nèi),不滲透冷凝物和灰塵。樣品氣體的原子和分子通過擴散進行 氣體交換,幾乎沒有時間延遲。如果冷凝水進入帶有薄膜的設備,測量會在幾分鐘內(nèi)受損,但傳感器可以非常有效地防止完全損壞。冷凝液蒸發(fā)后,設備準備再次測量。松散的污垢無法到達傳感器元件。
氫氣分析儀的校準
新的FTC320氫氣分析儀標定出廠后,達到用戶安裝現(xiàn)場,由于現(xiàn)場的采樣系統(tǒng)的壓力、流量、濕度都發(fā)生了變化,如果進行精 確測量,需要把分析儀連接測試采樣系統(tǒng),在現(xiàn)場進行二次標定,消除現(xiàn)場參數(shù)影響。對于小量程的氧氣中氫氣準確測量,例如:0-2%Vol. H2/O2,需要時常通入100%
O2的純氧氣進行零點校準。